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国产“冰刻机”取得大进展,能否取代光刻机?

答案是“肯定无法替代光刻机”啦!首先,所谓冰刻,只是说用-140℃的冰比现在光刻过程中的光刻胶效果要更好,但也就仅此而已,其他芯片生产中的难题都没有涉及。也就是说,仅仅是在光刻胶方面起到了另辟蹊径的目的,但在其他方面却难度增加了十倍不止,如此好处与劣处互相一抵消,结果是难度变更大了!你说这种事情有商业推广的意义吗?

其次,“冰刻”是用电子束来加工芯片,这就相当于是用笔在抄书,用电子束一笔一笔的将设计模板抄写到芯片基材上面;而“光刻”过程则是用光线像拍照片一样,将设计模板一次整版地复制到芯片基材上面。用脚后跟想也知道,拍照片要比拿笔抄写要快多了吧。所以,从生产效率上来说,二者根本没有可比性。

最后,现在光刻技术已经基本达到了硅基芯片生产的尺寸极限,而且技术还更成熟,设备也已经统治了市场,各大芯片厂商在光刻过程上面积累的专利技术多如牛毛。此时,有谁会愿意放弃现在这个成熟的技术路线,去走一个投入巨资,也不过最多是达到现在成熟技术路线相同效果的技术?何况,这个新的“冰刻”技术路线最后能不能走通都没人知道。

至此,这个“冰刻”技术路线,让几十上百个博士写论文毕业是妥妥的没问题,但拉赞助搞商业化投资,就是痴人说梦了。这会是孵化无数博士的金母鸡,但至少到现在为止,绝对不可能是商业化生产的金母鸡。“冰刻”天然固有的毛病,已经注定了这不可能是芯片制造的一条新的金光大道!大概就是这么一回事吧。

posted @ 22-10-01 01:21 作者:admin  阅读:

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